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              用途

              适用于科研单位进行材料新工艺薄膜研究;

              也可用于小批量,高精度薄膜材料制备工作。

              选配全自动控制系统后可实现全过程自动控制。

              特征

              1、制膜种类:适用于在塑胶,玻璃,陶瓷等材料质的工件上镀制金属膜。装饰膜,硬质膜或光学膜等。

              2、镀膜室尺寸:450×500mm,配球面拱形旋转夹具,转速030rmin;

              3、 真空系统:DH450-ZZK:大抽速2ZX-8机械泵+K-200不锈钢扩散泵;DH450-ZZF:可抽速2ZX-8机械泵+FF160/620分子泵。

              4、工作烘烤:室温300 可控可调﹝PID控温﹞;

              5、恢复真空:DH450-ZXK5×10-3Pa﹝小于15min﹞;

              DH450-ZZF:2×10-3Pa ﹝小于20min﹞ ;

              6、极限真空:DH450-ZZK1×10-4Pa;DH450-ZZF6.7×10-5Pa 。

              7、可选配件:离子辅助镀膜系统:有高压离子轰击;RF离子轰击;离子源等可选配;膜厚测量系统:光学膜厚测量系统;石英晶振测厚仪两种可选配;全自动操作控制系统;5.4英寸彩色触摸屏,三菱PLC可选配;负偏压,反溅清洗组件可选配;循环水机组可选配。

              8、 供电电源:三相380V,50HZ;特殊规格可定制。

               

               
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